ΝΈΕΣ ΤΕΧΝΟΛΟΓΊΕΣ
LITHOS
Ανάπτυξη Καινοτομικού Λογισμικού Προσομοίωσης
Μικροηλεκτρονικής Διεργασίας
Ο LITHOS είναι λογισμικό υποστήριξης της
λιθογραφίας ηλεκτρονικής δέσμης στην παρα
γωγή ολοκληρωμένων κυκλωμάτων. Αφού ολο
κληρώθηκε η ανάπτυξη των φυσικο-χημικών
μοντέλων, τώρα βρίσκεται στην αγορά.
Πρόσφατα υπογράφτηκε συμβόλαιο ανάμεσα
στο ΕΚΕΦΕ "ΔΗΜΟΚΡΙΤΟΣ" και την εταιρεία
SIGMA-C GmbH (Software Industry, Graphics,
Mathematics, Automation) με έδρα το Μόναχο,
για την εμπορική εκμετάλλευση λογισμικού
στον τομέα της Μικροηλεκτρονικής.
Το πρόγραμμα "LITHOS" (LITHOgraphy
Simulator) αναπτύχθηκε στο Ινστιτούτο
Μικροηλεκτρονικής του "Δ" απο τον ερευνητή
Ν.Γλέζο και το Δρα Γ. Ράπτη με την υποστήριξη
του μέχρι πρόσφατα Διευθυντή του Ινστιτούτου
Μ.Χατζάκη. Η εργασία αυτή αποτέλεσε μέρος
της διδακτορικής διατριβής του δεύτερου .
Το πρόγραμμα χρησιμοποιείται για την πρόβλε
ψη των αποτελεσμάτων της λιθογραφίας ηλε
κτρονικής δέσμης για δημιουργία νανοδομών
στη διαδικασία παραγωγής ολοκληρωμένων
κυκλωμάτων. Η καινοτομία συνίσταται στην
εφαρμογή αναλυτικής μεθόδου (λύση εξισώσε-
Για περισσότερες πληροφορίες
Ινστιτούτο Μικροηλεκτρονικής
ΕΚΕΦΕ"ΔΗΜΟΚΡΙΤΟΣ'
15310,Αγία Παρασκευή,Αττική
e-mail:
t.gr
::mU
:
:>
:.
/::::•:.
::i:r]
:
Ι==Ιίί
••'
ων μεταφοράς ) για την πρόβλεψη του ακρι
βούς σχήματος των δομών πάνω στο φωτοευαί
σθητο υλικό αντί για τη μέθοδο Monte-Carlo
που χρησιμοποιείται μέχρι σήμερα. Με τη μέθο
δο αυτή ο υπολογισμός είναι πολύ ταχύτερος
και μπορεί να αξιοποιηθεί σε πραγματικό χρόνο.
Ο κώδικας αναπτύχθηκε εξ' ολοκλήρου σε
γλώσσα C και σε λειτουργικά περιβάλλοντα
DOS και UNIX. Ειδικότερα, η DOS έκδοση είναι
εφοδιασμένη με περιβάλλον γραφικών φιλικό
για το χρήστη. Τα αποτελέσματα του κάθε στα
δίου της προσομοίωσης συγκρίνονται εύκολα
με αποτελέσματα ανάλογων λογισμικών.
Προς το παρόν, το ολοκληρωμένο λογισμικό
διατίθεται στη DOS έκδοση και έχει ήδη αγορα
στεί απο την ιαπωνική εταιρεία NEC. Η SIGMA-
C αναλαμβάνει την υποχρέωση να αναπτύξει
περιβάλλον υποστήριξης X-Window s για σταθ
μούς εργασίας σε UNIX και VMS .
Οι δύο εταίροι συμμετέχουν ano κοινού μαζί με
τους ερευνητικούς φορείς ΒΑί(Οξφόρδη),
lESS-CNR(Pu^) και CSELT (Τορίνο), στο
Ευρωπαϊκό πρόγραμμα ESPRIT (NANCAR:
Nanofabrication using Chemically Amplifie d
Resists) με αντικείμενο την αξιολόγηση ρητινών
χημικής ενίσχυσης για νανολιθογραφία. Στα
πλαίσια του προγράμματος αναπτύσσονται
φυσικο-χημικά μοντέλα περιγραφής των νέων
υλικών λιθογραφίας με σκοπό την ενσωμάτωση
τους στον κώδικα. Στα υπό αξιολόγηση υλικά
περιλαμβάνεται και πειραματικό υλικό που έχει
αναπτυχθεί στο Ινστιτούτο Μικροηλεκτρονικής
για το οποίο υπάρχουν επίσης ευοίωνες προο
πτικές εμπορικής εκμετάλλευσης.
